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日本TAITEC原装进口漩涡混合器、球磨破碎仪,不计成本大促销!
德国爱安姆成功参加“慕尼黑上海分析生化展”--场面火爆
德国IRM邀您相约analytica China 2016慕尼黑上海生化分析展
日本TAITEC 原装进口仪器,钜惠促销
开学有礼 特惠来袭——德国IRM精密干燥箱/精密培养箱/CO2培养箱限时特惠促销开始了!
祝贺我司参加“第十六届北京分析测试学术报告会暨展览会(BCEIA 2015)”圆满成功
8·12天津爆炸事故,天津海洋环境监测中心采购数台日本TAITEC分液漏斗振荡器 实时监测水质污染
日本TAITEC漩涡混合器,钜惠促销
德国IRM全线产品面向国内诚招代理
TAITEC全线产品面向国内诚招代理
祝贺我司参加“第十三届中国国际科学仪器及实验室装备展览会”圆满成功
日本TAITEC CORPORATION副社长富田悟志莅临我公司参观&合作交流
出游合集
日本大和科学株式会社森川智社长莅临我公司参观&合作交流
安捷来勒科技参加第七届慕尼黑上海分析生化展圆满成功
我司将参加2014年慕尼黑上海分析生化展
我司总经理叶均章先生应邀参加日本大和科学株式会社125周年庆典
热烈祝贺我公司在广州保利世贸博览馆召开的CHINA LAB 2014 展会上取得圆满成功
我公司于2014年2月20号成功举办进口优势仪器推介暨区域代理商招募会
我国计划建设一批国际合作联合实验室
CIMTE助力质量检验检测市场化发展
华中农大研发出头个猪肉药物残留检测国际标准
镇江研制叶绿素铜钠检测方法
年底促销送豪礼
诚招区域总代理
我国检验检测行业头个国家统计制度正式建立
热烈祝贺我公司在第十五届北京分析测试学术报告会及展览会(BCEIA 2013)中取得圆满成功
2013重大科研仪器专项9个项目通过*终评审
热烈祝贺我公司在第十一届中国国际科学仪器展中取得圆满成功
热烈祝贺北京安捷来勒科技有限公司在第九届中国科学仪器展中获得圆满成功
我们在努力,别人在引用
热烈祝贺我司在“北京工业大学2010年教学科研设备采购项目”中成功中标
警惕!赖账公司--齐齐哈尔昱阳科技发展有限公司
热烈祝贺我司在“中国检验检疫仪器设备采购项目”中成功中标
热烈庆祝我司在“国家海洋局天津海水淡化与综合利用研究所仪器设备采购项目”中成功中标
清华两个分析实验室获科技部国家仪器中心命名
风云三号A星11个仪器顺利打开
国产仪器仪表与进口产品的差距有哪些?
到科博会去,感受科技奥运的魅力(新闻来源:中华人民共和国科学技术部)
中日环保合作驶入快车道--中日友好环境保护中心走访记 (新闻来源:人民日报海外版)
中法科技合作有效利用国际**资源(新闻来源:科技部)
一季度中国仪器仪表出口94亿美元、进口116.89亿美元 (新闻来源:中华机械网)
AGILE公司全新产品展台设计成功
热烈庆祝我司在“中药研究所喷雾干燥机采购项目”中成功中标
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日本KOYO高温炉
更详细的产品分类
高温炉(马弗炉)
工业炉
半导体制造热处理设备
FPD热处理设备
加热元件
产品图片
产品名称/型号
产品简单介绍
小型输送炉
810A
小型输送炉 多品種、小ロット生産に*適 雰囲気下で連続処理が可能 各カバー類のワンタッチ開閉による メンテナンス性の向上 耐熱構造のマッフル採用 タッチパネル化ウィークリータイマ標準搭載
床型箱式炉
μBF
床型箱式炉: 各種雰囲気下での加熱処理が可能 還元雰囲気下での対応も可能 ヒータのメンテナンス性が良好 豊富なオプションを備える
超高温干燥箱UTO系列
UTO-6C,UTO-15C,UTO-21C,UTO-51N1,UTO-100N1
超高温干燥箱UTO系列 セラミックファイバーによる断熱方式でより優れた断熱性を発揮し、装置のコンパクト化に成功 ヒータはメンテナンス性を考慮し、プラグ方式を採用、保守・点検が容易 ワンパスエア排気機構により、冷却時間が自然冷却に比べ大幅に短縮
高温干燥箱
HTO-9B,HTO-15B
高温干燥箱 *高使用温度500℃ プログラム制御機能内蔵の汎用オーブン コンパクトサイズで実験・生産など幅広い用途に使用可能
KLO实验室系列干燥箱
KLO-30M,KLO-45M,KLO-60M
KLO实验室系列干燥箱 強制対流方式で均一な温度分布 昇温60分、降温90分の素早い昇降温 (RT+20⇔200℃) 4タイプの運転機能を保持 使いやすい温度調節計 定値運転やプログラム運転などの4タイプの運転が可能 セグメント表示ランプと状態表示バーにより、運転表示を一目で確認
高温惰性气体干燥箱INH系列
INH-9CD,INH-21CD,INH-51CD,INH-100CD
高温惰性气体干燥箱INH系列 Cool-down from 600 to 100 deg-C within 150 min (INH-21CD) Air tight with oil seal and door seal Lots of field results for ceramics and glass substrate
洁净干燥箱CLH系列
CLH-21CD(Ⅲ),CLH-21CDH(Ⅲ),CLH-21CD(Ⅴ),CLH-35CD(Ⅲ),C
洁净干燥箱CLH系列 Excellent heat efficiency and temperature uniformity The best for semiconductor wafers and glass substrate Inert gas introduction available
吸热型炉气发生装置
EN-4000MT
吸热型炉气发生装置 熱処理プロセスに欠かせない 吸熱型炉気発生装置 独自の省エネ断熱材一体型 モルダサームヒータ採用 低ランニングコスト、 CO2排出量の削減に貢献 メタノール滴注方式、炉内変成方式などに比べ、予め変成された雰囲気ガスを炉内に供給することにより炉内温度に依存することなく雰囲気ガス成分一定で製品の品質が安定します。
真空淬火炉
GR-3-365230-24VPC
真空淬火炉 ガス冷却と油冷の組合せが可能 多彩な冷却方向(1方向・上下・全周) 対流加熱による急速昇温 長寿命グラファイトロッドヒータを採用 均一な温度精度を確保(±5℃ at1100℃)
网带式连续烧结炉
CM-6-181804-A28C
网带式连续烧结炉 当社モルダサームブロック断熱材採用 による炉殻小型化(炉殻放散熱量削減)
连续渗碳淬火炉
ERTP-242724-ASV
连续渗碳淬火炉 炉殻放散熱量の低減 蓄熱式バーナの標準採用 真空パージ式の採用による安全性向上、作業環境改善 防炭剤対策 炉停止作業の無人化
无火焰KCF渗碳(渗氮)淬火炉
ERT-244824-AFV
无火焰KCF渗碳(渗氮)淬火炉 全自動搬送システム モニタリングシステム 油温、浸炭深さ、硬化データなどの品質管理 生産効率のUP 安全性の向上
大口径立式炉
VFS-4000
大口径立式炉 Available for vacuum/atmospheric pressure process Available for various gases Substrate size: 730×930 mm (Typical) (To be discussed for other size.)
Model 206A
Model 206A
Model 206A No.1 share in domestic market Handles 100 to 200 mm square wafer Batch: 200 to 400 wafers processing is available(depends on flat zone length and wafer pitch)
感应加热式高速升降温炉
RLA-1200
感应加热式高速升降温炉4 to 8 inch wafer size is available Low cost system by manual susceptor transfer Upper & lower cross lamp structure and soaking furnace improved the uniformity of in-plane temperature
感应加热式高速升降温炉
RLA-3100
感应加热式高速升降温炉4 to 8 inch wafer size is available Multi axis clean robot enables high speed and accurate wafer transfer Max 50 wafers continuous processing is available
感应加热式高速升降温炉
RLA-3300
感应加热式高速升降温炉Low cost performance by limited function Upper cross lamp structure and zone segmentation improved the uniformity of in-plane temperature
批量生产/实验室用卧式炉
Model 2000
批量生产/实验室用卧式炉From experimental usage to mass production, various equipment configuration is available Batch:25 to 150 wafers processing is available 1 to 4 stacks furnace configuration
R&D, 少量生产用立式炉
VF-1000
R&D, 少量生产用立式炉High performance processing for R&D Mini Batch, max 25 wafers batch processing 2 to 8 inch and 300mm wafer size are available
对应300mm Wafe的立式炉
VF-3000
对应300mm Wafe的立式炉Low-cost equipment for back end users,Mini batch, 50 to 75 wafers processing is available for R&D to mass production line 4 to 8 inch wafer size is available Max 4 cassette stocks
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